薄膜の基本技術 第３版

東京大学出版会
金原粲　

• 価格: 3,080円（本体2,800円＋税）
• 発行年月: 2008年07月
• 判型: Ａ５
• ISBN: 9784130628402

内容情報

[BOOKデータベースより]

１　真空装置の基本（真空の必要性；基本的構成　ほか）
２　真空蒸着法（真空蒸着と基板；気体に関する基本的な法則と公式　ほか）
３　スパッタリング法（放電とプラズマ；放電プラズマの基礎　ほか）
４　膜厚測定法（膜厚とは：その多様性；膜厚の分類　ほか）
５　関連技術（ガラスその他の基板洗浄；電気抵抗測定　ほか）

[日販商品データベースより]

カーボンナノチューブや青色発光ダイオードなど、今話題の材料は薄膜製作技術の成果。現代の最先端技術を支える薄膜の作り方や物性の測定などを基本から学べる定番テキスト。第２版を全面改訂、演習問題も付加。