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アドバンストエレクトロニクスシリーズ Tー17
培風館 原央
ICから、ULSI、さらにGSIへと発展しようとしている集積回路は、高度情報・通信社会の基盤を支える技術である。本書はこれら最先端の集積回路を実現するために必要な、広範囲なプロセス技術に関する解説書である。
1 集積回路の構造と必要なプロセス技術2 微細加工技術3 簿膜堆積技術4 酸化膜技術5 不純物導入技術6 清浄化技術7 結晶成長技術8 高・強誘電体薄膜形成技術9 プロセスモジュール技術10 プロセスシミュレーション技術11 ULSIプロセス技術の将来動向と課題
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[BOOKデータベースより]
ICから、ULSI、さらにGSIへと発展しようとしている集積回路は、高度情報・通信社会の基盤を支える技術である。本書はこれら最先端の集積回路を実現するために必要な、広範囲なプロセス技術に関する解説書である。
1 集積回路の構造と必要なプロセス技術
2 微細加工技術
3 簿膜堆積技術
4 酸化膜技術
5 不純物導入技術
6 清浄化技術
7 結晶成長技術
8 高・強誘電体薄膜形成技術
9 プロセスモジュール技術
10 プロセスシミュレーション技術
11 ULSIプロセス技術の将来動向と課題