レジスト材料の基礎とプロセス最適化

シーエムシー・リサーチ 鍬谷書店
河合晃　

• 価格: 88,000円（本体80,000円＋税）
• 発行年月: 2024年11月
• 判型: Ａ４
• ISBN: 9784910581101

内容情報

[日販商品データベースより]

★半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないフォトレジスト材料に関する基盤技術やノウハウを集約した書籍です。

【本書の特徴】
● 半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないレジスト材料について。
● フォトレジスト材料、プロセス、評価・解析、処理装置までを幅広く網羅
● デバイス製品規格をクリアできる技術の基礎およびノウハウの習得を目指す
● パターン欠陥などの歩留まり改善やトラブル対策に必須な技術まで詳述
● フォトレジスト材料の品質向上やプロセスの最適化といった課題の解決を支える
● フォトレジストに関する基盤技術やノウハウを集約した機能的な一冊