- フォトレジスト材料開発の新展開 普及版
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- 価格
- 5,500円（本体5,000円＋税）
- 発行年月
- 2015年11月
- 判型
- Ｂ５
- ISBN
- 9784781310398
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[BOOKデータベースより]
リソグラフィ技術の概要
光化学反応の基礎
光酸発生剤
従来型フォトレジスト―ｇ，ｉ線ノボラック系レジストを中心にして
ＫｒＦレジスト
ＡｒＦレジスト
ＡｒＦ液浸用レジスト
ダブルパターニング用材料
ＥＵＶレジスト
電子線レジスト
分子レジスト
反射防止材料
ＵＶナノインプリント用材料
ブロック共重合体リソグラフィ