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CMC TL 383
シーエムシー出版 松井真二 古室昌徳
点
第1章 総説(転写方式;周辺技術 ほか)第2章 転写方式(熱ナノインプリントの基礎とそのシーズ;室温ナノインプリント技術 ほか)第3章 装置と関連部材(ナノインプリント装置;モールド ほか)第4章 デバイス応用(電子・磁気・光学デバイス;光デバイス ほか)
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[BOOKデータベースより]
第1章 総説(転写方式;周辺技術 ほか)
第2章 転写方式(熱ナノインプリントの基礎とそのシーズ;室温ナノインプリント技術 ほか)
第3章 装置と関連部材(ナノインプリント装置;モールド ほか)
第4章 デバイス応用(電子・磁気・光学デバイス;光デバイス ほか)