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半導体デバイスシリーズ 1
丸善出版 平本俊郎 内田建 杉井信之 竹内潔
点
変革期を迎えるVLSI技術、半導体デバイス技術の差別化のコア技術について、第一線の研究者、技術者がまとめた半導体工学の本格的専門書シリーズ。本書はシリーズ第1巻。ナノスケールVLSIデバイス技術について、動作原理の基礎と諸問題の技術的背景、その対処法をまとめた。ナノ領域における開発現場での応用と着目点、解決すべき問題を整理。
1 序論(スケーリング則とムーアの法則;集積ナノデバイスの諸問題 ほか)2 MOSトランジスタの基礎(MOSトランジスタの構造と動作;MOSトランジスタの1次近似モデル ほか)3 微細トランジスタの性能向上(極薄膜Siや3次元構造Siによる新構造トランジスタ;移動度向上技術(ひずみSi、新チャネル材料))4 微細化・集積化にともなう諸問題(スケーリングによる微細化とその課題;微細MOSFETの信頼性 ほか)5 将来展望(将来に向けての技術動向;集積ナノデバイスマップ ほか)
第一線の著者陣による半導体工学の本格的専門書シリーズ第1巻。ナノスケールVLSIデバイス技術について、動作原理の基礎と諸問題の技術的背景、その対処法について、深くポイントを掘り下げて解説する。
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[BOOKデータベースより]
変革期を迎えるVLSI技術、半導体デバイス技術の差別化のコア技術について、第一線の研究者、技術者がまとめた半導体工学の本格的専門書シリーズ。本書はシリーズ第1巻。ナノスケールVLSIデバイス技術について、動作原理の基礎と諸問題の技術的背景、その対処法をまとめた。ナノ領域における開発現場での応用と着目点、解決すべき問題を整理。
1 序論(スケーリング則とムーアの法則;集積ナノデバイスの諸問題 ほか)
[日販商品データベースより]2 MOSトランジスタの基礎(MOSトランジスタの構造と動作;MOSトランジスタの1次近似モデル ほか)
3 微細トランジスタの性能向上(極薄膜Siや3次元構造Siによる新構造トランジスタ;移動度向上技術(ひずみSi、新チャネル材料))
4 微細化・集積化にともなう諸問題(スケーリングによる微細化とその課題;微細MOSFETの信頼性 ほか)
5 将来展望(将来に向けての技術動向;集積ナノデバイスマップ ほか)
第一線の著者陣による半導体工学の本格的専門書シリーズ第1巻。ナノスケールVLSIデバイス技術について、動作原理の基礎と諸問題の技術的背景、その対処法について、深くポイントを掘り下げて解説する。