ナノテクノロジーとレジスト材料

ＣＭＣテクニカルライブラリー　２５６

シーエムシー出版
山岡亜夫　

• 価格: 3,960円（本体3,600円＋税）
• 発行年月: 2007年04月
• 判型: Ａ５
• ISBN: 9784882319214

内容情報

[BOOKデータベースより]

第１編　トップダウンテクノロジー（ナノテクノロジーの概要―広がりゆくナノテクノロジー；ギガビットからテラビットを目指したリソグラフィーと材料；Ｘ線リソグラフィ；超微細加工におけるリソグラフィプロセスの限界）
第２編　広がりゆく微細化技術（高密度化するプリント配線技術と感光性樹脂；微細化するスクリーン印刷；デジタル化と印刷製版；ヘテロ系記録材料と特徴）
第３編　新しいレジスト材料（分子協調材料によるナノパターニング；走査プローブ顕微鏡のナノリソグラフィーへの応用；近接場光；表面反応；自己組織化；光プロセスと応用；ナノインプリントへの挑戦と応用分野）