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LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
工業調査会 田辺功 竹花洋一 法元盛久
第1章 フォトマスク技術の基本第2章 半導体フォトマスク第3章 電子部品用マスク第4章 先端フォトマスク技術第5章 NGLマスク技術第6章 マスク産業の現状第7章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し
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1位
又吉直樹
価格:1,320円(本体1,200円+税)
【2015年03月発売】
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[BOOKデータベースより]
第1章 フォトマスク技術の基本
第2章 半導体フォトマスク
第3章 電子部品用マスク
第4章 先端フォトマスク技術
第5章 NGLマスク技術
第6章 マスク産業の現状
第7章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し