半導体製造プロセスと材料

ＣＭＣテクニカルライブラリー　２０５

シーエムシー出版
大見忠弘　

• 価格: 4,180円（本体3,800円＋税）
• 発行年月: 2005年10月
• 判型: Ａ５
• ISBN: 9784882318668

内容情報

[BOOKデータベースより]

序論―半導体固有の製造技術創出：半導体技術はまさにこれから
半導体製造プロセスと材料
リソグラフィ技術
エッチング技術
ウルトラクリーンイオン注入技術
洗浄技術
低環境負荷型真空排気システム
マイクロ波励起高密度プラズマ直接酸化技術
次世代ＤＲＡＭ用ペロブスカイト誘電体キャパシター
電極・配線形成技術
絶縁膜形成技術
ＣＭＰ用研磨液（スラリー）
超高純度半導体ガス供給技術