半導体研究 ４５巻

超ＬＳＩ技術　２３　デバイスとプロセス　その１３

工業調査会
半導体研究振興会　 西沢潤一

• 価格: 23,100円（本体21,000円＋税）
• 発行年月: 1999年07月
• 判型: Ｂ５
• ISBN: 9784769311737

内容情報

[BOOKデータベースより]

今後の集積回路開発ではチップの高速化、低消費電力化、高効率化がこれまで以上に強く求められるようになる。本巻では、プロセス技術、デバイス技術、回路技術の３つの技術分野から高速化、低消費電力化、高効率化の鍵を握ると思われる技術を取り上げ、研究開発の現状と将来の可能性について言及している。

１章　洗浄技術
２章　コンタクト技術
３章　超精密ポリシング／ＣＭＰのメカニズムと半導体プロセスへの適用
４章　超高速ＵＬＳＩ実現に向けた多層配線技術―有機膜Ｃｕ配線技術の現状と課題
５章　高周波ＣＭＯＳデバイス・回路技術
６章　ＳＩＴ
７章　超高速ＳＯＩ　ＢｉＣＭＯＳ技術
８章　ＳｉＧｅ　ＨＢＴ技術
９章　ＣＭＯＳイメージセンサ