半導体研究 ４４巻

超ＬＳＩ技術　２２　デバイスとプロセス　その１２

工業調査会
半導体研究振興会　 西沢潤一

• 価格: 20,900円（本体19,000円＋税）
• 発行年月: 1998年05月
• 判型: Ｂ５
• ISBN: 9784769311638

内容情報

[BOOKデータベースより]

本書は、これからのギガビット時代に向けて、回路、デバイス、プロセスの多方面にわたり、基礎から考えるものである。

１章　サブ０．１μｍ　ＣＭＯＳ‐ＬＳＩのデバイス・回路技術
２章　ＳＩＭＯＸ技術を用いた高性能・低消費電力ＬＳＩ
３章　強誘電体不揮発メモリのプロセスデバイス技術
４章　トンネルゲート酸化膜ＭＯＳＦＥＴ技術
５章　ＳｉＯ２ホール内でのエッチング表面反応
６章　コンピュータと実験を最適に動員するＣＶＤモデリング
７章　酸化マンガン研磨剤を用いたＣＭＰ技術
８章　ＵＬＳＩデバイスにおける埋め込み多層配線技術
９章　Ａｌ系配線の高信頼化技術