半導体研究 ４２

超ＬＳＩ技術　２０　デバイスとプロセス　その１０

工業調査会
半導体研究振興会　 西沢潤一

• 価格: 20,900円（本体19,000円＋税）
• 発行年月: 1996年08月
• 判型: Ｂ５
• ISBN: 9784769311485

内容情報

[BOOKデータベースより]

本書は、超ＬＳＩシリーズの２０巻目にあたり、サブ０．１μｍ世代に向けて各プロセスを基礎から見直し、今後の開発方向を考えることを目的とした。

１章　シリコンＬＳＩの将来
２章　イオン注入によるクォータミクロンＣＭＯＳ構造設計
３章　高精度プロセスモデリング
４章　０．３５〜０．２５μｍ光リソグラフィ技術
５章　ＥＢ露光（図形一括露光とマルチビーム）の現状と課題
６章　化学増幅型レジストの現状と今後の展望
７章　Ｏ３酸化技術
８章　アルミニウム配線のエレクトロマイグレーション
９章　シリコンにおける重金属ゲッタリング