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日刊工業新聞社 庄野克房
1 エレクトロニクス産業の期待と展望2 集積回路を構成するデバイスと特性3 ビットマップCAD4 CMOSセル・コンパイラ5 領域アクセスを行うビットマップメモリバンク6 SEMを利用した電子線直接描画システム7 CMOSウェハプロセス8 2ビットマイクロコンピュータ9 CMOS多値LSI、光センサのためのAD変換10 CMOS多値LSI、可変しきい値論理VTL11 CMOS多値LSI、4ビットAD変換マクロセル12 特定用途向き集積回路、ASIC13 マイクロマシンの物性と運動
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[BOOKデータベースより]
1 エレクトロニクス産業の期待と展望
2 集積回路を構成するデバイスと特性
3 ビットマップCAD
4 CMOSセル・コンパイラ
5 領域アクセスを行うビットマップメモリバンク
6 SEMを利用した電子線直接描画システム
7 CMOSウェハプロセス
8 2ビットマイクロコンピュータ
9 CMOS多値LSI、光センサのためのAD変換
10 CMOS多値LSI、可変しきい値論理VTL
11 CMOS多値LSI、4ビットAD変換マクロセル
12 特定用途向き集積回路、ASIC
13 マイクロマシンの物性と運動