半導体研究 ２８

超ＬＳＩ技術　１２　デバイスとプロセス　その２

工業調査会
半導体研究振興会　 西沢潤一

• 価格: 18,700円（本体17,000円＋税）
• 発行年月: 1988年08月
• 判型: Ｂ５
• ISBN: 9784769310686

内容情報

[BOOKデータベースより]

第２８巻は、ＤＲＡＭ、ＳＲＡＭデバイス技術をはじめとして、酸化、エッチング等のプロセス技術、さらには表面、界面の解析法に至るまで、基礎から応用に亘って幅広く検討することを目的とした。

１　メガビットＤＲＡＭ技術
２　ＣＭＯＳ・ＳＲＡＭプロセスデバイス技術
３　サブミクロン光リングラフィ
４　サブミクロンプロセスシミュレーション
５　薄いシリコン酸化膜の信頼性
６　ＥＣＲプラズマプロセス
７　多孔質シリコンと金属・シリコン界面
８　Ｘ線回折法によるシリコン表面・界面の解析
９　電子分光法による表面の評価と吸着
パネルディスカッション