薄膜の基本技術 第２版

物理工学実験　５

東京大学出版会
金原粲　

• 価格: 2,640円（本体2,400円＋税）
• 発行年月: 1987年09月
• 判型: Ａ５
• ISBN: 9784130630412

内容情報

[BOOKデータベースより]

１．　はじめに
２．　薄膜作製に必要な真空装置の基礎（基本的な真空装置；真空ポンプの原理）
３．　真空蒸着法（基本的な公式；蒸着薄膜作製の具体例）
４．　スパタリング法（スパタリングの基本；基本的なスパタリング装置―二極直流スパタリング法）
５．　プラズマプロセス（プラズマＣＶＤ；イオンプレーティング）
６．　膜厚測定法（膜厚とは何か；繰返し反射干渉法；電気抵抗法）
７．　関連技術（単結晶薄膜の作製技術；非晶質薄膜の作製技術；電極の蒸着）