ＥＵＶ時代の半導体リソグラフィ技術

現場の即戦力

技術評論社
岡崎信次　鈴木章義　上野巧　

• 価格: 3,520円（本体3,200円＋税）
• 発行年月: 2026年05月
• 判型: Ａ５
• ISBN: 9784297154622

内容情報

[BOOKデータベースより]

１章　半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術の役割
２章　光リソグラフィ
３章　ＥＵＶリソグラフィ
４章　電子線リソグラフィ技術
５章　ナノインプリントリソグラフィ技術
６章　レジスト材料技術
７章　マルチパターニング技術　ＭＰＴ：Ｍｕｌｔｉｐｌｅ　Ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ
８章　マスク技術
９章　計測評価技術
１０章　半導体リソグラフィ技術の今後の展開

[日販商品データベースより]

限界といわれながら半導体集積回路の高集積化の勢いが止まらない。この高集積化を牽引するリソグラフィ技術に関し、その基本から応用まで詳述する。光リソグラフィ技術の解像限界を突破するマルチパターニング技術から、最先端微細加工を実現するEUVリソグラフィ技術の最新状況を紹介する。さらにマスク作製を一変させたマルチビーム型電子線描画装置の最新状況や、超微細な構造を実現するナノインプリント技術の最新状況まで述べている。