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新材料・新素材シリーズ
シーエムシー出版 伊藤真樹
点
第1編 基礎化学、分子設計と構造制御(シルセスキオキサン総論;ポリシルセスキオキサンの構造解析と反応化学 ほか)第2編 ナノハイブリッド材料にむけて(有機‐無機ハイブリッドのプラットホームとしての多面体シルセスキオキサン;シルセスキオキサンを用いた有機‐無機ハイブリッド材料 ほか)第3編 高分子の改質(かご型シルセスキオキサンによる高分子の改質;かご型シルセスキオキサン添加高分子薄膜の分子凝集状態と熱的性質)第4編 その他の分野(電子デバイス用絶縁膜材料への応用;マイクロパターニング ほか)
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1位
又吉直樹
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[BOOKデータベースより]
第1編 基礎化学、分子設計と構造制御(シルセスキオキサン総論;ポリシルセスキオキサンの構造解析と反応化学 ほか)
第2編 ナノハイブリッド材料にむけて(有機‐無機ハイブリッドのプラットホームとしての多面体シルセスキオキサン;シルセスキオキサンを用いた有機‐無機ハイブリッド材料 ほか)
第3編 高分子の改質(かご型シルセスキオキサンによる高分子の改質;かご型シルセスキオキサン添加高分子薄膜の分子凝集状態と熱的性質)
第4編 その他の分野(電子デバイス用絶縁膜材料への応用;マイクロパターニング ほか)