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新材料・新素材シリーズ
シーエムシー出版 小川俊夫
点
高分子の表面改質序論第1章 表面処理(化学的処理とプライマー処理;プラズマ放電処理;コロナ処理;グラフト化技術;電子線処理;大気圧プラズマ処理;レーザービーム法(溶着))第2章 表面解析技術(X線光電子分光法(XPS、ESCA)による高分子表面・界面の解析;走査プローブ顕微鏡法による高分子鎖の構造解析;TOF‐SIMS法;赤外線反射吸収分光法;微小切削法による表面・界面の解析;赤外・ラマン分光法による高分子の表;表面・界面解析のためのX線回折法;第3章 表面改質応用技術(生体適合性付与;接着性の改良;超撥水/撥油性の付与;帯電防止)
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[BOOKデータベースより]
高分子の表面改質序論
第1章 表面処理(化学的処理とプライマー処理;プラズマ放電処理;コロナ処理;グラフト化技術;電子線処理;大気圧プラズマ処理;レーザービーム法(溶着))
第2章 表面解析技術(X線光電子分光法(XPS、ESCA)による高分子表面・界面の解析;走査プローブ顕微鏡法による高分子鎖の構造解析;TOF‐SIMS法;赤外線反射吸収分光法;微小切削法による表面・界面の解析;赤外・ラマン分光法による高分子の表;表面・界面解析のためのX線回折法;第3章 表面改質応用技術(生体適合性付与;接着性の改良;超撥水/撥油性の付与;帯電防止)