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開発技術と応用 CMC TL 403
シーエムシー出版 上條榮治
点
第1章 無機膜の製造プロセス(PVD法;CVD法 ほか)第2章 無機膜の製造装置技術(最新のフィルムコンデンサー用巻取蒸着装置;反応性プラズマ蒸着装置 ほか)第3章 無機膜の物性評価技術(薄膜の組成と構造;薄膜の密着力および内部応力 ほか)第4章 無機膜の最新応用技術(工具・金型分野への応用;シリサイド系半導体薄膜の発光/受光デバイスへの応用 ほか)第5章 最新のトピックス(熱線反射膜と製品;プラスチックフィルムのガスバリア膜 ほか)
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1位
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[BOOKデータベースより]
第1章 無機膜の製造プロセス(PVD法;CVD法 ほか)
第2章 無機膜の製造装置技術(最新のフィルムコンデンサー用巻取蒸着装置;反応性プラズマ蒸着装置 ほか)
第3章 無機膜の物性評価技術(薄膜の組成と構造;薄膜の密着力および内部応力 ほか)
第4章 無機膜の最新応用技術(工具・金型分野への応用;シリサイド系半導体薄膜の発光/受光デバイスへの応用 ほか)
第5章 最新のトピックス(熱線反射膜と製品;プラスチックフィルムのガスバリア膜 ほか)