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成膜とエッチング入門
内田老鶴圃 市川幸美 佐々木敏明 堤井信力
点
本書は、プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説したものである。
第1章 プラズマと半導体プロセス第2章 半導体プロセス用プラズマの基礎第3章 半導体プロセス装置の概要第4章 プラズマCVD技術第5章 薄膜の評価方法第6章 プラズマエッチング技術第7章 付章 プロセシングプラズマを理解するための基礎理論
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1位
又吉直樹
価格:1,320円(本体1,200円+税)
【2015年03月発売】
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[BOOKデータベースより]
本書は、プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説したものである。
第1章 プラズマと半導体プロセス
第2章 半導体プロセス用プラズマの基礎
第3章 半導体プロセス装置の概要
第4章 プラズマCVD技術
第5章 薄膜の評価方法
第6章 プラズマエッチング技術
第7章 付章 プロセシングプラズマを理解するための基礎理論