半導体研究 ３６

超ＬＳＩ技術　１６　デバイスとプロセス　その６

工業調査会
半導体研究振興会　 西沢潤一

• 価格: 21,359円（本体19,417円＋税）
• 発行年月: 1992年08月
• 判型: Ｂ５
• ISBN: 9784769310976

内容情報

[BOOKデータベースより]

第３６巻は超ＬＳＩシリーズの１６巻目に当たり、微細化、高集積化により３次元的に複雑になるデバイス構造に対して生じる諸問題について基礎から見直し、今後の開発の方向について考える。

１　６４Ｍ　ＤＲＡＭ技術
２　不揮発性メモリ技術
３　超高速バイポーラデバイスの現状と将来
４　３次元形状シミュレーション
５　サイクロトロンＳＥＭによる高アスペクト比デバイスの観察
６　位相シフト法を用いた光リソグラフィ技術
７　有機シリコン系ＣＶＤ技術
８　低温ダメージダウンフローアッシング
９　シリコン自然酸化膜の成長機構
パネルディスカッション