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- 表面新物質創製
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- 価格
- 3,630円(本体3,300円+税)
- 発行年月
- 2011年09月
- 判型
- A5
- ISBN
- 9784320033726
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[BOOKデータベースより]
第1章 欠陥制御エピタキシャル成長技術による表面物質創製(Si表面上Ge歪エピタキシャル成長によるナノアイランド形成;高規則化刃状転位ネットワーク形成による均一歪Si1−XGeX・Ge層の創製 ほか)
[日販商品データベースより]第2章 走査型プローブ顕微鏡による表面物質創製(原子操作による表面物質創製;原子操作による導電性分子デバイス)
第3章 自己組織化によるナノワイヤ、ナノドット形成(VLS法によるナノワイヤ成長;シリコン基板上ナノワイヤのヘテロ構造、3次元構造 ほか)
第4章 表面を利用した炭素系ナノ材料の創製(基板表面上のグラフェンの創製;表面構造を利用したカーボンナノチューブの配列制御)
表面制御や表面との相互作用を利用した「表面を舞台としたナノスケールの新物質の創製」に焦点を当て、ナノスケールの表面制御技術をわかりやすく解説。研究実践の場で役立つ実験・解析手法も豊富に取りあげる。