超並列電子ビーム描画装置の開発

集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

東北大学出版会
江刺正喜　宮口裕　小島明　池上尚克　

• 価格: 3,300円（本体3,000円＋税）
• 発行年月: 2018年06月
• 判型: Ａ５
• ISBN: 9784861632969

内容情報

[BOOKデータベースより]

第１章　マスクレス露光と電子ビーム描画・転写（マスクレス露光（描画）；各種電子ビーム描画・転写）
第２章　並列電子ビーム描画の課題（電子ビーム制御；電子ビームの集束と電子レンズ　ほか）
第３章　並列電子ビーム描画装置用電子源（研究されてきた各種電子源；ナノクリスタルシリコン（ｎｃ‐Ｓｉ）電子源）
第４章　超並列電子ビーム描画（ＭＰＥＢＷ）（システム構成；電子源アレイ　ほか）
第５章　応用と今後の課題（デバイス大量生産への応用；マルチビーム技術の直接描画への応用　ほか）

[日販商品データベースより]

並列電子ビームによる描画の実用化に向けて、アクティブマトリックス超並列電子ビームの実験・開発の成果をまとめる。