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エレクトロニクスシリーズ
シーエムシー出版 上田充
点
リソグラフィ技術の概要光化学反応の基礎光酸発生剤従来型フォトレジスト―g,i線ノボラック系レジストを中心にしてKrFレジストArFレジストArF液浸用レジストダブルパターニング用材料EUVレジスト電子線レジスト分子レジスト反射防止材料UVナノインプリント用材料ブロック共重合体リソグラフィ
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みうらじゅん
価格:1,572円(本体1,429円+税)
【2006年08月発売】
CDR研究会 古市徹
価格:3,300円(本体3,000円+税)
【2002年01月発売】
井川治男
価格:1,980円(本体1,800円+税)
【2001年07月発売】
1位
又吉直樹
価格:1,320円(本体1,200円+税)
【2015年03月発売】
一覧を見る
[BOOKデータベースより]
リソグラフィ技術の概要
光化学反応の基礎
光酸発生剤
従来型フォトレジスト―g,i線ノボラック系レジストを中心にして
KrFレジスト
ArFレジスト
ArF液浸用レジスト
ダブルパターニング用材料
EUVレジスト
電子線レジスト
分子レジスト
反射防止材料
UVナノインプリント用材料
ブロック共重合体リソグラフィ