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[BOOKデータベースより]
本書では、読者の水準を学部4回生から大学院生におき、基本原理を詳細に記述した。また、項目や内容を整理し、最新の技術動向を加え、企業の若手研究者や技術者が必要な項目を参照できるよう心がけた。以下では、まずマイクロメカニカルフォトニクスの誕生と将来、半導体レーザーとマイクロマシンの集積技術を紹介する。次に光ピンセット技術の理論と実験、光圧回転体の設計・作製・評価と応用について述べる。最後に、新しいアクセス手段として注目されている近接場技術を要約している。
第1章 マイクロメカニカルフォトニクスの誕生と将来(オプトメカトロニクスからマイクロメカニカルフォトニクスへ;マイクロメカニカルフォトニクスのデバイス作製法 ほか)
第2章 光帰還半導体レーザーの理論と応用(理論による解析;実験による解析 ほか)
第3章 光ピンセットの理論と応用(光ピンセットの理論解析;光ピンセットの実験解析 ほか)
第4章 光圧回転体の理論と応用(光圧回転体の理論;光圧回転体の作製と評価 ほか)
第5章 近接場の理論と応用(近接場の電磁界解析;近接場の実験解析 ほか)