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ビギナーズブックス 23
工業調査会 小川洋輝 堀池靖浩
超LSIはクリーンネスとの闘いである。どんなにすぐれた設計・プロセス技術を用いても、プロセス、環境面でのクリーン化技術に問題点があるようでは期待通りの超LSIは生まれない。その技術の一つに洗浄技術がある。本書では半導体洗浄技術の全貌について、技術の位置づけ、歴史、基礎的事項、具体的手法、評価法、今後の展望までを詳細に解説している。
第1章 シリコン集積回路と洗浄技術の概略史第2章 ウェハ上の汚染物および表面状態がデバイスへ及ぼす影響第3章 従来の洗浄技術―RCA洗浄法を中心に第4章 ウェハ表面への汚染物の付着およびその洗浄機構第5章 新しい洗浄法―脱RCA洗浄を目指して第6章 ウェット洗浄装置第7章 ドライ洗浄法第8章 ウェハ表面の汚染物の評価方法第9章 洗浄技術の課題と今後の展望
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1位
又吉直樹
価格:1,320円(本体1,200円+税)
【2015年03月発売】
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[BOOKデータベースより]
超LSIはクリーンネスとの闘いである。どんなにすぐれた設計・プロセス技術を用いても、プロセス、環境面でのクリーン化技術に問題点があるようでは期待通りの超LSIは生まれない。その技術の一つに洗浄技術がある。本書では半導体洗浄技術の全貌について、技術の位置づけ、歴史、基礎的事項、具体的手法、評価法、今後の展望までを詳細に解説している。
第1章 シリコン集積回路と洗浄技術の概略史
第2章 ウェハ上の汚染物および表面状態がデバイスへ及ぼす影響
第3章 従来の洗浄技術―RCA洗浄法を中心に
第4章 ウェハ表面への汚染物の付着およびその洗浄機構
第5章 新しい洗浄法―脱RCA洗浄を目指して
第6章 ウェット洗浄装置
第7章 ドライ洗浄法
第8章 ウェハ表面の汚染物の評価方法
第9章 洗浄技術の課題と今後の展望