- ＶＬＳＩとＣＶＤ
-
半導体デバイスへのＣＶＤ技術の応用
- 価格
- 7,260円（本体6,600円＋税）
- 発行年月
- 1997年07月
- 判型
- Ａ５
- ISBN
- 9784837506454
この商品をご覧のお客様は、こんな商品もチェックしています。
- 今と未来がわかる半導体
-
価格：1,980円（本体1,800円＋税）
【2024年02月発売】
- ビジュアル版 一冊でつかむ世界を動かす半導体
-
価格：1,980円（本体1,800円＋税）
【2025年03月発売】
- はじめての半導体プロセス
-
価格：2,838円（本体2,580円＋税）
【2011年08月発売】
- 半導体デバイスの不良・故障解析技術
-
価格：3,630円（本体3,300円＋税）
【2019年12月発売】
- 半導体工学 第３版・新装版
-
価格：3,520円（本体3,200円＋税）
【2020年10月発売】
のマークが目印です。
[BOOKデータベースより]
１章 ＣＶＤとシリコンデバイス
２章 ＣＶＤ技術概論
３章 ＣＶＤによる膜形成法
４章 ＣＶＤ膜形成用原料化合物
５章 ＣＶＤ膜形成反応の制御
６章 ＣＶＤ膜形成各論
７章 ＣＶＤ膜の評価技術
８章 ＣＶＤ膜の応用
９章 ＣＶＤ装置
１０章 ＣＶＤ技術の将来展望