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超LSI技術 15 デバイスとプロセス その5
工業調査会 半導体研究振興会 西沢潤一
第34巻は超LSIシリーズの15巻目にあたり、サブハーフミクロンに向けたCMOS技術をはじめとして、メタル配線技術、ドライエッチング技術、エピタキシー、フォトリソグラフィ等の各要素技術について基礎から見直し、今後の開発について検討することを目的とした。
1 サブハーフミクロンCMOSトランジスタ2 配線破断メカニズムと配線材料3 ダウンフロープロセス技術4 ドライエッチングにおける表面反応制御技術5 シリコン分子層エピタキシ6 電界イオン‐走査トンネル顕微鏡(FI‐STM)7 新リソグラフィ技術―光の限界の打破および電子ビームの高速化8 エキシマレーザリソグラフィ9 小型放射光源開発の現状パネルディスカッション
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1位
又吉直樹
価格:1,320円(本体1,200円+税)
【2015年03月発売】
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[BOOKデータベースより]
第34巻は超LSIシリーズの15巻目にあたり、サブハーフミクロンに向けたCMOS技術をはじめとして、メタル配線技術、ドライエッチング技術、エピタキシー、フォトリソグラフィ等の各要素技術について基礎から見直し、今後の開発について検討することを目的とした。
1 サブハーフミクロンCMOSトランジスタ
2 配線破断メカニズムと配線材料
3 ダウンフロープロセス技術
4 ドライエッチングにおける表面反応制御技術
5 シリコン分子層エピタキシ
6 電界イオン‐走査トンネル顕微鏡(FI‐STM)
7 新リソグラフィ技術―光の限界の打破および電子ビームの高速化
8 エキシマレーザリソグラフィ
9 小型放射光源開発の現状
パネルディスカッション