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- 薄膜工学 第2版
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丸善出版
吉田貞史 近藤高志 金原粲
- 価格
- 4,180円(本体3,800円+税)
- 発行年月
- 2011年06月
- 判型
- A5
- ISBN
- 9784621084144
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[BOOKデータベースより]
薄膜技術は、非常に基礎的な技術でありながら関係する応用分野が広く、最先端エレクトロニクスに不可欠な基盤技術でもある。本書は、その基本事項を解説するとともに、最近の著しい技術発展を踏まえて改訂を行い、微細加工技術を用いた2次元、3次元微細構造の導入や基板の大型化・高速化を可能にした装置技術、新しい薄膜作製手法、原子・分子スケールでの測定技術なども取り上げて解説する。本書は、薄膜分野の研究や技術開発に携わる人々の入門書として、また、薄膜の基礎技術の解説書として、格好の書である。
1 薄膜工学の基礎(薄膜の基礎;薄膜のプロセスと応用)
[日販商品データベースより]2 薄膜の作製法(真空蒸着;スパッタリング;化学気相成長法)
3 薄膜の評価(形状・構造評価;組成評価・分析;力学的・機械的性質の評価)
4 薄膜の機能と応用(半導体薄膜;光学薄膜と透明導電膜;誘電体薄膜;磁性薄膜;薄膜の化学的性質と機能;有機薄膜)
基礎的な技術でありながら、関係する応用分野が広く、エレクトロニクス技術の最先端を担う薄膜技術。本書は、その基本事項を解説するとともに、最近の著しい技術発展を踏まえて改訂を行った。