ＡＬＤ（原子層堆積）によるエネルギー変換デバイス

Ａｔｏｍｉｃ　Ｌａｙｅｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ　ｉｎ　Ｅｎｅｒｇｙ　Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ　Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ

エヌ・ティー・エス 鍬谷書店
ジュリアン・バッハマン　鈴木雄二　廣瀬千秋　

• 価格: 35,200円（本体32,000円＋税）
• 発行年月: 2018年11月
• 判型: Ｂ５
• ISBN: 9784860435653

内容情報

[BOOKデータベースより]

第１編　ＡＬＤ（原子層堆積）入門（原子層堆積の基礎：膜成長の特性と類似性）
第２編　光電効果材料におけるＡＬＤ（Ｓｉ太陽電池のパッシベーションに用いる原子層堆積；光吸収のために行うＡＬＤ；ナノ構造体太陽電池における表面および界面エンジニアリングのための原子層堆積（ＡＬＤ））
第３編　ＡＬＤの電気化学的なエネルギー貯蔵への適用（燃料電池および電解槽に使用する電極触媒の原子層堆積；薄膜リチウムイオン電池用の原子層堆積；高温燃料電池用のＡＬＤ処理酸化物）
第４編　ＡＬＤの光電気化学的エネルギー変換および熱電効果によるエネルギー変換への適用（光電気化学的水分解に用いるＡＬＤ；熱電材料のための原子層堆積）