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半導体の高次元化技術

貫通電極による3D/2.5D/2.1D実装

東京電機大学出版局
伝田精一 

価格
1,980円(本体1,800円+税)
発行年月
2015年04月
判型
A5
ISBN
9784501330903

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内容情報
[BOOKデータベースより]

第1章 TSV技術の開発
第2章 TSVの作成プロセス
第3章 TSVチップの3D積層技術
第4章 TSVを使ったワイドIOメモリシステム
第5章 2.5D TSVチップ積層構造
第6章 TSV‐3Dメモリシステムの開発
第7章 新インターポーザと2.1Dデバイス
第8章 3D用マイクロバンプ、チップフィル、実装材料
第9章 TSV関連の技術開発

[日販商品データベースより]

半導体を高次元化する技術の概要・特徴が理解でき、今後の技術動向と業界の展望について分かりやすく解説。半導体の3D、2.5D、2.1Dの加工方法、製作コスト、技術的課題をわかりやすくまとめたため、今後の研究開発・技術開発の指針となる。新しい技術であるワイドIO、ガラスインターポーザに関しても多くの情報を取り上げた。



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