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貫通電極による3D/2.5D/2.1D実装
東京電機大学出版局 伝田精一
点
第1章 TSV技術の開発第2章 TSVの作成プロセス第3章 TSVチップの3D積層技術第4章 TSVを使ったワイドIOメモリシステム第5章 2.5D TSVチップ積層構造第6章 TSV‐3Dメモリシステムの開発第7章 新インターポーザと2.1Dデバイス第8章 3D用マイクロバンプ、チップフィル、実装材料第9章 TSV関連の技術開発
半導体を高次元化する技術の概要・特徴が理解でき、今後の技術動向と業界の展望について分かりやすく解説。半導体の3D、2.5D、2.1Dの加工方法、製作コスト、技術的課題をわかりやすくまとめたため、今後の研究開発・技術開発の指針となる。新しい技術であるワイドIO、ガラスインターポーザに関しても多くの情報を取り上げた。
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1位
又吉直樹
価格:1,320円(本体1,200円+税)
【2015年03月発売】
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[BOOKデータベースより]
第1章 TSV技術の開発
[日販商品データベースより]第2章 TSVの作成プロセス
第3章 TSVチップの3D積層技術
第4章 TSVを使ったワイドIOメモリシステム
第5章 2.5D TSVチップ積層構造
第6章 TSV‐3Dメモリシステムの開発
第7章 新インターポーザと2.1Dデバイス
第8章 3D用マイクロバンプ、チップフィル、実装材料
第9章 TSV関連の技術開発
半導体を高次元化する技術の概要・特徴が理解でき、今後の技術動向と業界の展望について分かりやすく解説。半導体の3D、2.5D、2.1Dの加工方法、製作コスト、技術的課題をわかりやすくまとめたため、今後の研究開発・技術開発の指針となる。新しい技術であるワイドIO、ガラスインターポーザに関しても多くの情報を取り上げた。